产品技术参数
超透镜（Metalens） 是基于纳米压印技术与半导体制程工艺制造的集成化精密控光元件，通过亚波长微纳结构阵列实现光场调控。
核心技术指标
制程精度: 5nm级别原子层刻蚀（ALE）技术，侧壁垂直度±0.5°
结构尺寸: 亚波长级别微纳结构阵列（具体尺寸可根据应用定制）
透过率: 通过抗反射涂层优化，可达高透过率
波前调制: 支持相位、振幅、偏振态的全维度光场控制
加工工艺: 纳米压印、光刻、刻蚀、镀膜、CMP全流程制造能力
基材选项: 支持硬质基材（如玻璃、石英）及柔性基材（PDMS、PET）定制
产品结构描述
超透镜采用平面化微纳结构设计，通过在基底表面加工亚波长尺度的纳米柱/孔阵列，每个纳米单元作为相位调制单元，精确控制入射光的相位分布。相比传统曲面透镜，超透镜具有以下结构特点：
平面化设计: 厚度可控制在微米级别，便于芯片级集成
无底切加工: 采用原子层刻蚀技术，实现侧壁垂直的矩形结构，避免传统刻蚀的底切损伤
抗反射涂层: 通过精确设计的多层膜系，降低表面反射损耗
微纳结构阵列: 通过曲率与结构参数的精确设计，实现聚焦、准直、光束整形等功能
功能与应用场景
主要功能
波前调制: 实现光束聚焦、准直、发散控制
偏振调制: 配合线栅偏振片实现偏振态选择与转换
光束整形: 将激光光束能量分布均匀化，解决能量分布不均问题
小型化集成: 替代传统多片组合透镜，实现光学系统体积缩减
应用场景
智能驾驶: 3D传感模组、激光雷达（LiDAR）的发射/接收光学系统
消费电子: 手机摄像模组小型化、AR/VR显示设备
光通信: 光纤耦合、光信号处理、波分复用系统
激光传感器: 激光雷达、结构光传感器、飞行时间（ToF）模组
光学: 紧凑型光学瞄准系统、光电探测设备
未来显示: 全息显示、光场显示等新型显示技术
产品规格与定制服务
标准产品线
超透镜（Metalens）: 平面化相位调制透镜
微透镜阵列（MLA）: 高密度微透镜单元阵列
衍射光学元件（DOE）: 光束分束、整形元件
线栅偏振片（WGP）: 高消光比偏振控制元件
扩散片: 光束均匀化散射元件
氮化硅窗口片: 高透过率保护窗口
定制化服务
多基材适配: 支持PDMS、PET等柔性基材的结构翻制
复杂微结构: 纳米光栅、纳米孔/柱阵列、斜齿光栅、V槽光栅、二维散斑结构
全工艺覆盖: 湿法、光刻、纳米压印、镀膜、CMP、刻蚀全流程加工
交付模式: 硬件供货、OEM/ODM合作、定制化加工服务
技术优势
自主纳米压印技术: 国内首台可量产纳米压印设备，实现产业化生产
半导体制程保障: 成熟稳定的Fab工艺体系，确保产品一致性
多学科团队: 2位""、6名博士、2名硕士研发团队，设有清华大学博士研究生实习基地
全流程能力: 从设计、加工到镀膜、检测的一站式解决方案
企业资质
高新技术企业（2025年）
创新型中小企业
2025年潜在独角兽企业
江苏省民营科技企业
市级企业工程技术研究中心
