技术参数说明
微透镜阵列(MLA)光调控参数
聚焦方式:通过精确设计曲率实现波前调制
透过率性能:配备抗反射涂层,实现高透过率光学传输
加工精度:采用纳米压印技术,实现微米及纳米级结构加工
刻蚀技术:应用原子层刻蚀(ALE)技术,在5nm制程中实现侧壁垂直矩形无损加工
结构精度:避免底切损伤,逐层剥离实现超精密结构
制造工艺:基于成熟半导体制程工艺,覆盖光刻、纳米压印、镀膜、刻蚀全流程
产品结构描述
微透镜阵列属于光学元器件产品线中的集成化精密控光元件。产品采用微纳结构设计,通过在基底表面制备规则排列的微透镜单元,形成阵列式光学器件。
结构组成:
微透镜单元:单个透镜通过曲率设计实现光束聚焦与整形
抗反射涂层:表面镀膜层提升光学透过率,降低反射损耗
基底材料:支持多种基材适配,满足不同应用场景需求
制造特点:
采用纳米压印技术结合半导体制程工艺,实现大规模批量化生产。原子层刻蚀技术确保结构边缘的垂直度与表面质量,消除传统刻蚀工艺的底切损伤问题。
功能与应用
光调控功能:
波前调制:通过微透镜曲率设计,实现入射光波前的精确控制,完成光束聚焦、准直或发散
光束整形:将激光光束能量分布均匀化,解决能量分布不均问题
偏振调制:配合线栅偏振片等元件,实现偏振态的精确控制
高透过率传输:抗反射涂层设计使光学透过率达到应用要求,降低信号损耗
应用场景:
智能驾驶:应用于3D传感器与激光雷达系统的光束整形与控光
光通信:用于光纤耦合与信号处理中的波前调制
消费电子:满足手机摄像模组小型化与成像质量提升需求
激光与传感器:为激光设备提供光束控制与能量分布优化方案
及显示领域:支持特种光学系统的定制化控光需求
解决痛点:
传统光学元件体积大,无法满足器件集成化与微型化趋势。微透镜阵列通过微纳结构设计,实现光学元件的小型化与高性能集成,同时提供高透过率与精确的光束控制能力。
规格型号与定制服务
标准产品类型:
微透镜阵列(MLA)
超透镜(Metalens)
衍射光学元件(DOE)
线栅偏振片(WGP)
定制化服务:
公司提供全工艺链定制化加工服务,支持复杂微结构的设计与制造:
基材选择:支持PDMS、PET等柔性基材及其他特殊基材
结构定制:根据客户光学设计需求,定制微透镜曲率、阵列密度、尺寸规格
工艺流程:涵盖湿法、光刻、纳米压印、镀膜、CMP、刻蚀完整工艺链
交付模式:提供OEM/ODM供货及定制加工服务
生产能力:
拥有20,000平方米Fab工厂,固定资产投入近5亿元,具备批量化生产与定制加工能力。
技术支撑与研发实力
公司研发团队由2位、6名博士、2名硕士组成,设有清华大学博士研究生实习基地。技术总监钱志浩拥有北京大学微电子硕士学位及新加坡意法半导体高级工程师经验,具备接近20年半导体相关产品研发与生产经验。
公司获得高新技术企业、创新型中小企业、2025年潜在独角兽企业等资质认证,设有市级企业工程技术研究中心,为微透镜光调控技术的持续创新提供保障。
